Cette année – pour la première fois – Foam présente l’exposition Foam Talent à Amsterdam. L’exposition présente 20 artistes internationaux dont le travail explore des sujets et techniques très différents.
Sélectionnés suite à l’appel à candidature annuel – le plus grand à ce jour, avec 1.790 soumissions provenant de 75 pays différents – les 20 photographes présentés représentent un croisement de l’état actuel de la photographie.
Le numéro Talent de Foam Magazine sert de catalogue d’exposition et fournit des textes plus approfondis sur le travail des artistes présentés.
Artistes participants :
Sushant Chhabria (Inde), David De Beyter (France), Mark Dorf (États-Unis), Alinka Echeverría (Mexique / Royaume-Uni), Weronika Gęsicka (Pologne), Wang Juyan (Chine), Thomas Kuijpers (Pays-Bas), Quentin Lacombe (France) ), Clément Lambelet (Suisse), Namsa Leuba (Suisse / Guinée), Erik Madigan Heck (États-Unis), Alix Marie (France), Martin Errichiello et Filippo Menichetti (Italie), Wang Nan (Chine), Kai Oh (Corée du Sud) , Viacheslav Poliakov (Ukraine), Ben Schonberger (États-Unis), Sadegh Souri (Iran), Harit Srikhao (Thaïlande) et Vasantha Yogananthan (France).
Plus d’informations et d’images sur https://www.foam.org
Informations
Foam Fotografiemuseum
Keizersgracht 609, Amsterdam, Netherlands
01 septembre 2017 au 12 novembre 2017
