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Best of Février 2019 – Erwin Olaf: Parallèle

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«Parallèle: Erwin Olaf» présente près de cinquante photographies de la carrière dynamique du célèbre photographe néerlandais Erwin Olaf, couvrant les 15 dernières années de son travail créatif. Un certain nombre d’œuvres seront exposées pour la première fois en Chine. L’année 2019 marque un moment important dans la carrière d’Olaf, l’un des photographes les plus importants et les plus influents à l’heure actuelle aux Pays-Bas. «Parallèle: Erwin Olaf» est l’une des nombreuses expositions majeures qui se dérouleront en 2019 pour célébrer sa carrière. Les autres se dérouleront au musée Gemeentemuseum de La Haye et au musée de la photographie de La Haye. «Parallèle: Erwin Olaf» ouvrira ses portes à SCoP le 3 mars 2019, à l’occasion du Shanghai Art Weekend qui se tiendra avant le salon Art Basel Hong Kong, en tant qu’événement majeur du calendrier international de l’art. L’expertise d’Olaf réside dans la photographie de mode et dans la création de campagnes publicitaires provocantes. À cette occasion, cependant, «Parallel» évite les images les plus largement connues d’Olaf au profit d’une exploration d’un aspect plus personnel du travail du photographe alors...

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